機(jī)械零件噴漆廠噴漆廢氣處理

 

某機(jī)械零件烤漆廠專業(yè)從事表面噴塑、噴漆加工、粉末制造及相關(guān)金屬零件制造，具有多年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。產(chǎn)品出口到全***各地。噴漆過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體和環(huán)境有害的噴漆廢氣。根據(jù)我***環(huán)保部門的相關(guān)規(guī)定，噴漆廢氣必須經(jīng)過(guò)凈化處理達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)后才能排放。

噴漆廢氣的有害成分

噴漆廢氣和烘干廢氣成分:苯、甲苯、二甲苯、己烷、庚烷、甲乙酮、乙酸乙酯、四氯化碳等，主要用于處理“三苯基”和揮發(fā)性有機(jī)廢氣(VOCs)。噴漆原料——噴漆由非揮發(fā)性和揮發(fā)性成分組成，非揮發(fā)性成分包括成膜物質(zhì)和輔助成膜物質(zhì)，揮發(fā)性成分指溶劑和稀釋劑(主要是二甲苯)。噴漆廢氣中的有機(jī)氣體來(lái)自溶劑和稀釋劑的揮發(fā)，有機(jī)溶劑不會(huì)附著在噴漆表面，而是在噴漆和固化過(guò)程中完全釋放形成有機(jī)廢氣。噴漆過(guò)程中揮發(fā)的二甲苯廢氣量約占稀釋劑消耗量的30%，另有70%在干燥過(guò)程中揮發(fā)。噴漆作業(yè)中噴漆和溶劑霧化形成的兩相懸浮物逸散到周圍空氣中，污染空氣。收集和分離污染空氣中的漆霧是提高噴漆質(zhì)量、改善噴漆環(huán)境、滿足環(huán)保排放要求的主要方法。

機(jī)械零件烤漆廠噴漆廢氣處理設(shè)備工藝流程

廢氣→水噴淋塔(清洗過(guò)濾漆霧、灰塵、顆粒物，為等離子體提供******的運(yùn)行環(huán)境)→低溫等離子體設(shè)備(破壞廢氣分子結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)化為無(wú)污染物質(zhì))→高壓風(fēng)機(jī)(在高壓吸力作用下將風(fēng)抽出車間)→光催化除臭設(shè)備→煙囪高空排放。

機(jī)械零件烤漆廠噴漆廢氣處理設(shè)備的工作原理

機(jī)械零件烤漆廠噴漆廢氣處理設(shè)備是根據(jù)噴漆廢氣的情況定做的一套專業(yè)噴漆廢氣處理設(shè)備。該設(shè)備主要由水噴淋塔、低溫等離子體設(shè)備、uv光解除臭設(shè)備和高壓風(fēng)機(jī)四部分組成，其中uv光解設(shè)備和低溫等離子體設(shè)備是設(shè)備的主要組成部分，起著至關(guān)重要的作用。uv光解除臭設(shè)備和低溫等離子體設(shè)備的工作原理:uv光解設(shè)備利用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進(jìn)行光催化，催化裂解惡臭氣體如氮?dú)?、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯、二甲苯等分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈發(fā)生變化，在高能紫外光束中，低溫等離子體是繼固體、液體、氣體之后的***四種物質(zhì)狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被分解，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電過(guò)程中電子溫度很高，但是重粒子的溫度很低，整個(gè)系統(tǒng)處于低溫狀態(tài)，所以稱之為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用高能電子、自由基等這些活性粒子在極短的時(shí)間內(nèi)分解污染物，然后進(jìn)行各種后續(xù)反應(yīng)，達(dá)到降解污染物的目的。(注:與高溫等離子體相比，低溫等離子體屬于常溫操作。)

低溫等離子體是電子、化學(xué)和催化綜合作用下的電化學(xué)過(guò)程。它依靠等離子體產(chǎn)生的強(qiáng)***電場(chǎng)能量來(lái)電離和裂解有害氣體，從而破壞廢氣的分子結(jié)構(gòu)，達(dá)到凈化的目的。低溫等離子凈化器能有效去除揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物，以及各種惡臭。它能在24小時(shí)內(nèi)去除長(zhǎng)期擴(kuò)散積累的惡臭和異味，并具有強(qiáng)力殺滅空氣中細(xì)菌、病毒等各種微生物的能力，具有明顯的防霉性。

低溫等離子廢氣處理不需要任何添加劑，不產(chǎn)生廢水、廢渣，不造成二次污染。

機(jī)械零件烤漆廠噴漆廢氣處理設(shè)備的***勢(shì)

1.高度自動(dòng)化。

2.工藝簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)便。

3.凈化效率高，無(wú)二次污染。

4.處理氣體:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醚、甲硫醇、二甲基二硫、惡臭氣體。